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ASML e Zeiss publicam projeto da Hyper NA, sucessora da litografia High NA que pode levar dez anos
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ASML e Zeiss publicam projeto da Hyper NA, sucessora da litografia High NA que pode levar dez anos

admin

Artigo revisado por pares descreve máquina EUV com abertura de 0,75 capaz de imprimir 5 nm; ASML iniciou o desenvolvimento, sem compromisso de produzir.

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