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ASML e Zeiss publicam projeto da Hyper NA, sucessora da litografia High NA que pode levar dez anos
Artigo revisado por pares descreve máquina EUV com abertura de 0,75 capaz de imprimir 5 nm; ASML iniciou o desenvolvimento, sem compromisso de produzir.
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Intel é a primeira a usar a litografia High NA EUV da ASML na produção em volume de chips
Em 15/7, a ASML informou que camadas do Intel 18A no Panther Lake passaram a ser feitas em máquinas High NA EUV, com rendimento igual ao das atuais.
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