Intel é a primeira a usar a litografia High NA EUV da ASML na produção em volume de chips
Em 15/7, a ASML informou que camadas do Intel 18A no Panther Lake passaram a ser feitas em máquinas High NA EUV, com rendimento igual ao das atuais.
A ASML informou em 15 de julho de 2026 que a Intel Foundry passou a usar a litografia High NA EUV, a geração mais avançada de máquinas de ultravioleta extremo da fabricante holandesa, na produção em alto volume de parte dos processadores Intel Core Ultra Series 3, de codinome Panther Lake, feitos no processo Intel 18A. Segundo o comunicado, camadas específicas do 18A foram qualificadas nos equipamentos High NA na fábrica do Oregon, nos Estados Unidos, e os produtos já seguem para clientes com rendimento equivalente ao obtido nas máquinas EUV atuais, da plataforma NXE. Com isso, de acordo com a ASML, a Intel se torna a primeira empresa do setor a entregar um produto lógico de alto volume fabricado com a tecnologia.
O que é High NA e por que importa
Como explica o Tom’s Hardware, a High NA EUV usa a mesma luz ultravioleta extrema de 13,5 nanômetros das máquinas atuais, mas aumenta a abertura numérica do sistema óptico, isto é, a capacidade de coletar e focar luz sobre o wafer, de 0,33 para 0,55. A resolução maior permite imprimir padrões menores em uma única exposição e deve reduzir a dependência de técnicas de múltipla padronização nas camadas mais difíceis, o que simplifica a fabricação. Até este anúncio, segundo a publicação, a plataforma estava restrita a trabalhos de pesquisa e desenvolvimento.
As camadas foram qualificadas em modo duplo: a mesma etapa pode ser feita em uma máquina NXE de 0,33 NA ou em uma EXE de 0,55 NA, e os wafers resultantes são intercambiáveis. Na prática, isso dá flexibilidade de capacidade à fábrica. O executivo da Intel Foundry Naga Chandrasekaran afirmou no comunicado que a qualificação em camadas selecionadas permite que a frota existente de equipamentos entregue mais produção, enquanto a empresa desenvolve opções para os próximos nós.
O que o anúncio não diz
O Panther Lake não é inteiramente fabricado com High NA. A Intel aplica a nova litografia apenas a camadas específicas, e o restante do chip continua sendo produzido com litografia convencional, abordagem comum na introdução de novas gerações de equipamentos. O processador também não é um lançamento novo: a Intel apresentou a linha Core Ultra Series 3 na CES, em 5 de janeiro de 2026, e os sistemas chegaram às lojas a partir de 27 de janeiro, segundo o Tom’s Hardware. A expressão “produto enviado a clientes” refere-se ao fluxo de wafers da fábrica para a cadeia de suprimentos.
Nem ASML nem Intel divulgaram quais camadas usam High NA, quantas máquinas EXE estão em produção ou a parcela dos chips Panther Lake que passa pelo novo processo. A afirmação de rendimento equivalente ao da plataforma NXE vem das próprias empresas, sem dados públicos que permitam verificação independente.
Próximos passos
A Intel concluiu em 2024 a integração do primeiro sistema comercial High NA, o TWINSCAN EXE:5000, em seu centro de pesquisa em Hillsboro, no Oregon, e foi a primeira a instalar e aprovar nos testes de aceitação a segunda geração, o EXE:5200B, que aumenta a produtividade e a precisão de sobreposição. Segundo o Tom’s Hardware, o próximo passo é o processo Intel 14A, projetado para usar High NA em um conjunto de camadas de passo mais apertado. Para a ASML, o uso em produção gera dados para ajustar configuração, tempo de operação e implementação dos equipamentos e abre caminho para adoção mais ampla pelo setor.
Fontes
- ASML — High NA EUV reaches new readiness milestone with first high-volume Logic product (15/07/2026)
- Tom's Hardware — Intel becomes the first company to ship high-volume logic chips made with ASML’s High NA EUV (15/07/2026)
Imagem destacada: ilustração gerada por computador, sem valor documental.


